Wysokiej klasy FIB-SEM

ZEISS Crossbeam​

Specjalizowany do trzeciego wymiaru

Połączenie skaningowego mikroskopu elektronowego (SEM) i skupionej wiązki jonów (FIB) umożliwia precyzyjne cięcie materiału w najmniejszej skali (zakres nanometrów) i bezpośrednie obrazowanie struktury materiału pod powierzchnią. Typowe zastosowania obejmują precyzyjną lokalizację i analizę chemiczną (EDX) lokalnych defektów. ​

  • Najlepsza rozdzielczość 3D w analizie FIB-SEM
  • Dwie wiązki, jony i elektrony
  • Narzędzie do przygotowania próbek
  • Dłuższe użytkowanie dzięki opcjonalnemu laserowi femtosekundowemu
  • EDS, EBSD, WDS, SIMS i inne na życzenie

ZEISS Crossbeam dla przemysłu

Poznaj nową jakość w testowaniu swoich próbek.

Przygotowuj cienkie lamele do analizy w TEM (mikroskopia elektronowa transmisyjna) lub STEM (mikroskopia elektronowa skaningowa transmisyjna). ZEISS Crossbeam to kompletne rozwiązanie do przygotowywania płytek TEM, nawet w partiach.

Niskonapięciowa wydajność kolumny FIB ion-sculptor umożliwia tworzenie wysokiej jakości lamel i zapobiega amorfizacji delikatnych próbek. Użyj prostego procesu, aby rozpocząć i czekaj na automatyczne wykonanie. Wykorzystaj oprogramowanie do wykrywania punktów końcowych i zyskaj dokładne informacje o grubości lameli.

Opcjonalny laser femtosekundowy jest używany do ablacji materiału i lepszego dostępu do głębszych struktur, a także do przygotowywania większych próbek.

Obszary zastosowań w skrócie

  • Lokalne przekroje poprzeczne, np. w miejscach defektów (defekty wzrostu cienkich warstw, korozja, uwięzione cząstki itp.)
  • Przygotowanie lameli TEM
  • Badania przekrojów poprzecznych o wysokiej rozdzielczości w transmisji (STEM)
  • Tomografia 3D mikrostruktury lub lokalnych defektów
  • Przetwarzanie struktur poprzez ukierunkowane usuwanie materiału

Więcej o ZEISS Crossbeam

  • Szybka analiza uszkodzeń 3D. Korelacyjny przepływ pracy od ZEISS.

  • ZEISS Crossbeam Laser: Optymalizacja i automatyzacja procesów z LaserFIB

  • Dowiedz się więcej o procesie objętościowej analizy próbek.

  • Obejrzyj film o naszym rozwiązaniu korelacyjnego przepływu pracy! Dowiedz się, jak łatwo można analizować dane w różnych technologiach dzięki rozwiązaniom ZEISS oraz jak uzyskać niezawodne i wydajne wyniki.
    Szybka analiza uszkodzeń 3D. Korelacyjny przepływ pracy od ZEISS.
  • 1. Uzyskaj szybki dostęp do głęboko ukrytych struktur 2. Wykonuj zadania laserowe w dedykowanej do tego zintegrowanej komorze, aby utrzymać czystość głównej komory FIB-SEM i detektorów 3. Automatyzuj obróbkę laserem, polerowanie, czyszczenie i przenoszenie próbki do komory FIB 4. Przygotuj wiele próbek, np. przekroje poprzeczne, lamele TEM, układy filarów. Pracuj wydajnie, korzystając z wstępnie zainstalowanych receptur dla różnych materiałów.
    ZEISS Crossbeam Laser: Optymalizacja i automatyzacja procesów z LaserFIB
  • Poznaj proces objętościowej analizy próbek, nowy instrument zdolny do rozwiązywania problemów materiałowych w wielu skalach w jednym, pojedynczym ekosystemie korelacyjnym. Proces ten umożliwia użytkownikowi zrozumienie właściwości materiału powiązanych z każdą skalą za pomocą szeregu technik mikroskopowych.
    Dowiedz się więcej o procesie objętościowej analizy próbek

Analiza uszkodzeń FIB-SEM części nadwozia samochodowego

  • Dzięki wyższej jakości produkcji i najnowocześniejszym technologiom wykańczania powierzchni wady są teraz mniejsze i występują rzadziej. Dlatego też należy stosować metody mikroskopowe w celu ich znalezienia, zlokalizowania, przygotowania i zbadania ich źródła. Niniejsza broszura przedstawia podejście mikroskopii korelacyjnej do efektywnego badania podczas analizy wad.

  • 01 Nałożenie wyfrezowanego laserowo rowka na obraz ROI z mikroskopu świetlnego.

    W tym kontekście zadania mikroskopii świetlnej są wykonywane przez cyfrowy mikroskop ZEISS Smartzoom 5. Przygotowanie i badanie natomiast są realizowane za pomocą lasera ZEISS Crossbeam. Oba systemy są korelowane przez ZEISS ZEN Connect w celu precyzyjnej relokacji wad w FIB-SEM.

  • 02 Przekrój poprzeczny frezowany laserowo przez defekt powierzchni, podejrzana cecha widoczna pod warstwami farby; SEM, SESI, 50x.

    Znalezienie przyczyny rozproszonych i niewielkich wad na dużych próbkach w celu wydajnej ich analizy wymaga procesu polegającego na lokalizowaniu, dokumentowaniu, zmianie lokalizacji, przygotowywaniu i badaniu obszarów zainteresowania. ​

  • 03 Podejrzany obiekt w materiale bazowym pod farbą, powierzchnia frezowana laserowo; SEM, SESI, 450x.

    Skaningowe mikroskopy elektronowe ze skupioną wiązką jonów (FIB-SEM) wychodzą poza ograniczenia konwencjonalnego przygotowania próbek materiałograficznych. Jednak ponieważ mikroskopy elektronowe mają zazwyczaj ograniczone pole widzenia, czasami łatwiej jest wykonać etap lokalizacji na mikroskopie świetlnym. Z tego powodu użytkownicy potrzebują systemu, który pozwoli im zlokalizować obszar obrazu w mikroskopie świetlnym, a następnie pobrać go w FIB-SEM.

  • 04 Polerowanie FIB, dobre wykończenie powierzchni z wyraźnie odróżnialnymi cechami; SEM, InLens, 450x.

    Rozwiązanie programowe ZEISS ZEN Connect łączy się z ZEISS ZEN Data Storage, aby to zapewnić. Nowy laser femtosekundowy dla systemów ZEISS Crossbeam oferuje również specyficzne dla danej lokalizacji przygotowanie na dużych obszarach. Przyczyną wad powierzchni w powyższym przykładzie okazały się resztki włókna węglowego co odkryto z pomocą lasera fs, polerowania przekroju FIB i analizy EDS. ​

  • 05 Mapowanie elementów EDS obszaru polerowanego FIB; żółty: Węgiel, niebieski: Glin, różowy: Tytan, czerwony: Krzem.

    Podejście mikroskopii korelacyjnej umożliwia również efektywne badanie więcej niż jednego obszaru zainteresowania. Wszystkie wyniki są następnie zapisywane w spójnym projekcie, a ZEISS ZEN Data Storage zapewnia pełną dostępność do dalszych badań lub tworzenia raportów.

Nałożenie obrazu rowka wyfrezowanego laserowo na obraz obszaru zainteresowania uzyskany za pomocą mikroskopu świetlnego; SEM, SESI, 450x. ​

Do pobrania

  • ZEISS SEM Brochure A4 EN PDF

    22 MB
  • ZEISS IQS Technical Paper, FIB/SEM, Failure analysis, EN, PDF

    5 MB
  • Technical Paper Connected Microscopy EN

    430 KB


Skontaktuj się z nami

Chcesz dowiedzieć się więcej o naszych produktach lub usługach? Przekażemy Ci szczegółowe informacje i przeprowadzimy prezentację produktu - zdalnie lub na miejscu.

Szukasz więcej informacji?

Odezwij się do nas. Nasi eksperci skontaktują się z Tobą.

Wczytywanie formularza...

/ 4
Następny krok:
  • Szczegóły zapytania
  • Dane kontaktowe
  • Dane firmy

Jeśli chcesz uzyskać więcej informacji na temat przetwarzania danych w ZEISS, zapoznaj się z zasadami ochrony danych osobowych.