ZEISS Crossbeam
Specjalizowany do trzeciego wymiaru
Połączenie skaningowego mikroskopu elektronowego (SEM) i skupionej wiązki jonów (FIB) umożliwia precyzyjne cięcie materiału w najmniejszej skali (zakres nanometrów) i bezpośrednie obrazowanie struktury materiału pod powierzchnią. Typowe zastosowania obejmują precyzyjną lokalizację i analizę chemiczną (EDX) lokalnych defektów.
ZEISS Crossbeam dla przemysłu
Poznaj nową jakość w testowaniu swoich próbek.
Przygotowuj cienkie lamele do analizy w TEM (mikroskopia elektronowa transmisyjna) lub STEM (mikroskopia elektronowa skaningowa transmisyjna). ZEISS Crossbeam to kompletne rozwiązanie do przygotowywania płytek TEM, nawet w partiach.
Niskonapięciowa wydajność kolumny FIB ion-sculptor umożliwia tworzenie wysokiej jakości lamel i zapobiega amorfizacji delikatnych próbek. Użyj prostego procesu, aby rozpocząć i czekaj na automatyczne wykonanie. Wykorzystaj oprogramowanie do wykrywania punktów końcowych i zyskaj dokładne informacje o grubości lameli.
Opcjonalny laser femtosekundowy jest używany do ablacji materiału i lepszego dostępu do głębszych struktur, a także do przygotowywania większych próbek.
Obszary zastosowań w skrócie
- Lokalne przekroje poprzeczne, np. w miejscach defektów (defekty wzrostu cienkich warstw, korozja, uwięzione cząstki itp.)
- Przygotowanie lameli TEM
- Badania przekrojów poprzecznych o wysokiej rozdzielczości w transmisji (STEM)
- Tomografia 3D mikrostruktury lub lokalnych defektów
- Przetwarzanie struktur poprzez ukierunkowane usuwanie materiału